针对“清华大学EUV项目把阿斯麦（ASML）的光刻机巨大化，实现光刻机国产化”的传闻，中国电子院回应称，该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目。

据澎湃新闻早前报道，一则在各大社交平台上广为流传的视频称，北京清华大学科研团队弯道超车，突破美国技术封锁，实现光刻机的巨大化，国产EUV光刻机获得突破，并称该项目已在河北省保定市雄安新区落地。

中国电子工程设计院有限公司星期一（9月18日）通过官方微信公众号澄清，上述项目并非网传的中国国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。

中国电子院介绍，HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施，是中国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。这个项目早在2019年就开始建设、将于2025年底投入使用。

中国电子院表示，HEPS可以被视为一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机，它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。

中国电子院强调，HEPS是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。